Dec 06, 2023 Deixe um recado

Por que usar pó de silício de alta pureza para fazer materiais semicondutores

A interface entre silício e sílica. O pó de silício de alta pureza possui boas propriedades interfaciais. Comparada com a interface de outros materiais semicondutores correspondentes à camada de óxido, a interface entre o silício e o dióxido de silício é perfeita. Com o desenvolvimento da tecnologia, o controle de defeitos de interface está cada vez melhor. Por exemplo, após a renovação da sala limpa, o impacto dos defeitos foi muito baixo. Ao mesmo tempo, ao injetar impurezas, o dióxido de silício pode servir como camada de proteção, bloqueando efetivamente impurezas como fósforo e boro.

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A segunda é que o pó de silício de alta pureza é um material isolante muito estável (sua lacuna de energia é de cerca de 9ev, não sei se me lembro bem), enquanto o dióxido de germânio não é apenas instável em altas temperaturas, mas também solúvel em água. O dióxido de silício não apresenta esse problema; a grande lacuna de energia do dióxido de silício tornará sua corrente de fuga menor (é claro, se a camada de óxido for muito fina, a corrente de fuga aumentará).

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Comparado com o germânio, o pó de silício de alta pureza tem uma lacuna de energia maior e, portanto, pode suportar temperaturas operacionais mais altas e uma faixa mais ampla de dopagem de impurezas. A tensão de ruptura dos materiais de silício também será maior. No passado, os dispositivos semicondutores eram todos feitos de germânio. A tecnologia estava madura e a velocidade de resposta de comutação era mais rápida. Porém, isso exige um custo alto. Os capitalistas escolheram o silício, então muitos cientistas começaram a fazer avanços no silício. Claro, isso está relacionado às excelentes propriedades do próprio silício, como grandes reservas e desempenho estável. Outra vantagem é que a sílica é um isolante natural e pode ser usada diretamente como camada intermediária após o tratamento térmico.

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Pó de silício de alta pureza com teor de silício de 99% (2N), 99,9% (3N), 99,99% (4N) e baixíssimo oxigênio, carbono, fósforo, enxofre e impurezas metálicas, que pode atender às necessidades de processos industriais com alta requisitos de impurezas. necessidades, preenchendo a lacuna no campo do pó de silício industrial doméstico de alta pureza. Ligas de alumínio, ligas de titânio, ligas de cobre, nitreto de silício de alto desempenho e carbono...

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