Especificações de pó de silício metálico
Composição química (graus de pureza)
A pureza do silício em pó é crítica para sua aplicação. Notas comuns incluem:
| Nota | Conteúdo de Si (%) | Principais impurezas (no máximo) | Aplicações típicas |
|---|---|---|---|
| Grau metalúrgica | 98.0–99.0% | Fe ({{0}}. 5%), Al (0. 5%), CA (0,3%) | Ligas, refratários, desoxidantes |
| Grau químico | 99.0–99.5% | Fe ({{0}}. 4%), Al (0. 4%), CA (0,2%) | Silicones, silanos, cerâmica |
| Grau eletrônica | Maior ou igual a 99,9999% (6n) | B, P, C, O (níveis de ppm) | Bolachas semicondutores, células solares |
Distribuição do tamanho de partícula
O tamanho das partículas afeta a reatividade, o comportamento de sinterização e a fluxo. Classificações comuns:
| Tipo | Faixa de tamanho de partícula | Método de produção | Aplicações |
|---|---|---|---|
| Pó grosso | 100–500 µm | Moagem mecânica | Metalurgia, refratários |
| Pó fino | 10–100 µm | Moagem a jato, moagem de bola | Síntese química, impressão 3D |
| Pó ultrafino | 1–10 µm | Deposição de vapor químico (CVD) | Baterias, revestimentos |
| Nano em pó | <1 µm (nanoscale) | Síntese plasmática | Eletrônica, composto avançado |
Morfologia e propriedades físicas
Forma:Irregular (triturado), esférico (atomizado) ou poroso (para área de alta superfície).
Densidade em massa:0. 5–1,5 g\/cm³ (varia com o tamanho e a forma das partículas).
Área de superfície:1–50 m²\/g (medido via método BET; mais alto para pós de nano).
Principais padrões da indústria
Diferentes indústrias seguem padrões específicos para silício em pó:
Uso metalúrgico:ASTM C989, GB\/T 2881 (China).
Grau eletrônica:Semi F57 (para materiais semicondutores).
Indústria química:ISO 9286 (materiais abrasivos).
Especificações personalizadas
Os fornecedores costumam adaptar o pó de silício para necessidades específicas, incluindo:
Silício dopado:Boro\/fósforo dopado para uso de semicondutores.
Pó revestido:SiO₂ ou revestido de carbono para aumentar a estabilidade.
Impureza baixa-metálica:Para ânodos de bateria de íons de lítio.
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